始终保障稳定产出高品质的超纯水

应用于现代半导体芯片、微电子、显示面板、光电材料、新能源、实验室等行业，用于制备电阻率高达15-18 MΩ·cm的超纯水。

• 产水水质：

  符合ASTM D5127、SJ/T 11636-2016、GB/T 11446.1-2013、SEMI F63行业标准。

• 设备特点：

  一体化设计、模块化安装、全自动控制、占地面积小、产水水质稳定、操作维护简单。

• 工艺流程：

  1.预处理+一级反渗透（RO） + 电去离子（EDI）

  2.预处理+一级反渗透（RO） + 电去离子（EDI）+抛光混床/终端超滤

  3.预处理+一级反渗透（RO）+二级反渗透（DRO）+电去离子（EDI）+抛光混床/终端超滤

• 工艺特点：

  1.采用“RO+EDI”标准组合，成熟经济，是主流的超纯水制备方案。

  2.在基础工艺末端增加抛光单元，针对关键用水点提供极限纯度的终端保障。

  3.以“二级RO”加强预处理，构成全流程深度净化系统，实现最高水质稳定性与可靠性。

备注：系统配备完善的水质监测系统，实时监控并调整水质参数，确保持续稳定地供应超纯水。